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概要：

     每公斤液氨裂解可制得2.64Nm3混合氣體，其中含75%的氫氣和25%的氮氣。氨經裂解后，所得的氣體含雜質較少（雜質中含水汽約2克/立方米，殘余氨約0.01%）, 再通過分子篩吸附純化器，氣體的露點可降至-600C～－700C，殘余氨可降至3PPM以下.

     氨裂解制氫爐可用于有色金屬，硅鋼、鉻鋼、鎢鉬合金和不銹鋼等金屬材料和零件的光亮退火、硅鋼片的脫碳處理、銅基、鐵基粉末冶金燒結、電真空器件的金屬零件燒氫處理、半導體器件的保護燒結和封結、鈀合金膜擴散純化氫氣的原料氣等。

     原料氨容易得到，價格低廉，原料消耗較少。氨裂解來制取保護氣體具有投資少，體積小，效率高等優點。

制氫原理

     氨（氣態）在一定溫度和壓力下，經催化劑作用下裂解為75%的氫氣和25%的氮氣，并吸收21.9千卡熱量，其主要反應為：  

                                              2NH3—3H2+N2-21.9千卡

     整個過程因是吸熱反應，提高溫度有利于氨裂解,同時它又是體積擴大的反應,降低壓力有利于氨的分解，一般控制在一個大氣壓左右，溫度在800-850℃之間更為適宜。

     裂解氫氣的純度很高，共中揮發性雜質只有微量的殘氨和水份,可見只須除去微量殘氨和水份即可獲得高純度氣體.  氣體提純采用變溫吸附技術。

     變溫吸附(TSA)技術是以吸附劑(多孔固體物質)內部表面對氣體分子在不同溫度下吸附性能不同為基礎的一種氣體分離純化工藝.常溫時吸附雜質氣,加溫時脫附雜質氣。

附：氨分解工藝流程 

     分子篩表面全是微孔，在常溫常壓下可吸附相當于自重20%(靜態吸附時的水份和雜質，而在350℃左右的溫度下，可以再生完全，純化裝置在閥門控制下，每24小時自動切換一次，以得到純度和雜質含量均合格的產品氣體。

附：純化工藝流程 

裝備水平及結構特點

     高普氨裂解制氫爐結構特點：

     裂解管：     W型裂解管采用 優質0Cr25Ni20 不銹鋼材質，TIG焊接，裝有燒結鎳的特殊催化劑。在800℃-850℃溫度下產生99.99%的裂解率。

     加熱室：      加熱室由低瓦密度的合金元件加熱，確保長久的使用期，加熱室采用 真空吸濾成型輕質硅酸鋁纖維板保溫絕熱。

     加熱絲安裝方式：采用熱插拔方式安裝，可以在不停氣的情況下更換加熱絲。

     氣體冷卻器：  裝有氣體熱交換器以及裝有立管式的翼型水冷卻管。

     溫度的控制：  微機控制器調較K型熱電偶，設定值溫度或控制調節，數字顯示器；

     高效汽化器：  液氨的汽化采用電加熱（可選）的方式汽化液氨。

     氫氣純化器結構特點：

     切換控制：    分子篩的活化再生是通過內置加熱器加熱后實現的。吸附器一用一備；一只在吸附工作時，另一只在脫附再生；該過程是通過閥門切換和再生溫度控制。

     吸附劑：      采用沸石5A型分子篩，該分子篩具有很強的吸附性能，在常溫常壓下可吸附相當于自重20%的水氣和雜質氣，用其純化氨裂解產生的氫氮氣，可有效地脫除微量氨和微量水，產生高品質的純凈氣體。

     吸附器：      吸附器采用奧地利EBNER工藝內置棒式加熱器，加熱棒設計成低表面負荷，并且加熱時加熱棒不接觸分子篩，靠加熱的氣體來加熱分子篩，這樣，保證了吸附器的高效和可靠。